发布时间: 2024-06-15 01:07:36 | 作者: 安博体育官网入口下载
9月29日早盘,晶瑞股份高开9.46%至39.1元/股,随后直线拉升,截至午盘,公司股票价格涨停,涨幅达19.99%,报42.86元/股。
另外“晶瑞转债”也一度上涨20%,触及盘中临时停牌,复牌后小幅回落,截至午间收盘,“晶瑞转债”涨幅为17.46%。
消息面上,晶瑞股份早间公告,为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,拟通过Singtest Technology PTE. LTD.进口韩国SK Hynix的ASML光刻机设备,总价款为1102.5万美元,按当前汇率计算,这一价款约合人民币7500万元。
晶瑞股份同时披露,拟发行不超5.5亿元可转债,用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目、阳恒化工年产9万吨超大规模集成电路用半导体级高纯硫酸技改项目、补充流动资金或偿还银行贷款。
晶瑞股份是国内半导体材料龙头,基本的产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料和锂电池粘结剂四大类微电子化学品。全资子公司苏州瑞红是国内光刻胶龙头,1993年便开始光刻胶的生产。
晶瑞股份也带动了A股其他光刻胶概念股大幅走高,广信材料、飞凯材料、扬帆新材等均涨幅靠前。
众所周知,荷兰ASML(阿斯麦尔)是全球光刻机顶尖龙头,并且还垄断了光刻机领域最顶尖的EUV光刻机的生产制造能力,售价高达1.2亿美元。EUV光刻机大多数都用在7nm和5nm芯片。
ASML在全球更为大范围的应用的产品是浸入式DUV光刻机,采用ArF光源,也称作ArFi光刻机,其光源波长突破193nm,缩短为134nm,NA值为1.35,最新2000i的型号最高可实现7nm芯片制程节点。
晶瑞股份方面人士告诉中国证券报记者,现在光刻机设备并不好买,公司并不是直接购买ASML的光刻机设备,而是通过代理商购买存储器芯片厂商SK海力士的一台ASML二手光刻机设备。
上述的人偷偷表示,其购买的光刻机类型是ASML的1900型号的光刻机。根据公开报道,ASML的1900型号浸没式光刻机在2007年7月量产发货,可以助力客户将芯片量产制造能力扩展到36.5nm节点。
根据曝光波长不同,目前光刻胶可分为普通宽普光刻胶、g线nm)、i 线nm)及最先进的 EUV(13.5nm) 光刻胶,等级越往上,其极限分辨率越高,同一面积的硅晶圆布线密度就越大,性能越好。
晶瑞股份采购的这一台设备有助于其研发ArF(193nm)光刻胶。晶瑞股份全资子公司苏州瑞红,是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。苏州瑞红1993年开始生产光刻胶,承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品研究开发及产业化”项目,公司光刻胶产品达到国际中高级水准,可提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线、i线正胶等高端产品,i线光刻胶已向国内合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子等行业头部公司供货。高端KrF光刻胶完成中试,产品分辨率达到了0.25~0.13m的技术方面的要求,建成了中试示范线。
晶瑞股份公告称,本次设备供应商为SK海力士(SK Hynix),该公司为全球领先的半导体厂商,代理商为Singtest Technology PTE. LTD.,公司通过代理商向SK Hynix的招标代理服务机构韩国LUNS Co.,Ltd做沟通、协调,并促成本次采购。公司已于2020年9月8日通过代理商Singtest Technology PTE. LTD.向SK Hynix报价,于2020年9月24日确定中标。公司就供应商提供设备的能力、代理商协助交货能力进行了合理判断,认为该供应商及代理商具备可靠的履约能力。
公司表示,本次合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性和设备如期到位并投产,对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于逐步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,有助于落实公司发展的策略,提升公司抗风险能力和可持续发展能力。
光刻机是芯片制造上游重要关键设备,拥有ASML的光刻机,不仅是芯片制造企业的核心竞争力表现,也是光刻胶研发生产企业的重要实力体现。除了购买,机台的实际交付、运输、到货过程也值得关注。
晶瑞股份在公告中提示风险称,合同存在交易对方无法按照设备交付计划及时履行供货义务的风险。合同各方均具有履约能力,但该合同标的较大,在合同履行过程中存在因政治因素、恶劣天气、贸易限制等不可抗力因素影响,导致合同不能或部分不能执行的风险。
除了苏州瑞红,北京科华微电子材料有限公司(简称“北京科华”)也是国内领先的光刻胶企业。企业成立于2004年,产品覆盖KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂,是中芯国际、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、 华灿光电、德豪光电等行业顶尖客户的稳定合作伙伴。
今年5月,高盟新材在互动平台上表示,公司持有北京科华3.6698%股权,北京科华目前是国内唯一拥有荷兰ASML光刻机的已生产光刻胶并供货的光刻胶公司。
南大光电在今年半年报披露,公司正在自主研发和产业化的193nm光刻胶项目,已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。
公司设立光刻胶事业部,并由子公司宁波南大光电全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施。项目基本的建设按计划进行;安装好一条193nm光刻胶生产线,用于产品检验测试的光刻机也已完成安装,目前产线和光刻机均处于调试阶段;公司同时自主研发制备光刻胶用的高纯原材料,已研制出的光刻胶产品正在进行客户评估工作。
根据宁波南大光电的招聘需求,南大光电购买安装的光刻机也是ASML的1900型号浸没式光刻机。
此外,上海新阳也购买了一台ASML的1400型号的光刻机,不过尚未交付到货。今年4月,上海新阳披露,用于ArF(干式)干法光刻胶研发的即用于检测曝光数据的光刻机(型号:ASML-1400,二手机台)已完成境外采购,目前在运送过程中,尚未到货,存在项目研发计划滞后的风险。
上海新阳今年8月发布定增预案,拟向特定对象发行募集资金不超过15亿元,扣除发行费用后拟将7.32亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目。交易所在针对其定增事项的问询函中,要求上海新阳补充说明或披露型号为ASML-1400的光刻机在募投项目研发中的具体作用;截至目前ASML-1400光刻机仍未交付的具体原因、预计能够交付的时间、对项目研发进展的具体影响,如长期无法交付,对募投项目实施及效益达成是不是真的存在重大不利影响,是不是真的存在其他替代措施。
以ArF光刻胶、KrF厚膜光刻胶为代表的高端光刻胶以及工艺的主要技术和专利目前都掌握在国外的企业与研究部门,如日本的信越化学(Shin-Etsu Chemical)、合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学,这一些企业几乎占据了国内外高端光刻胶市场全部份额。
近日,发改委等四部委印发《关于扩大战略性新兴起的产业投资壮大新增长点增长极的指导意见》。意见提出,加快在光刻胶、高纯靶材、高温合金、高性能纤维材料、高强高导耐热材料、耐腐蚀材料、大尺寸硅片、电子封装材料等领域实现突破;提升稀土、钒钛、钨钼、锂、铷铯、石墨等特色资源在开采、冶炼、深加工等环节的技术水平。
在光刻机领域,我国也在加大研发攻关力度。9月16日,国新办就中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展情况举行发布会。会上,中国科学院院长表示,未来十年,会针对一些“卡脖子”的核心问题做部署,“率先行动”计划第二阶段要把 “卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局,比如航空轮胎、轴承钢、光刻机等,集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。
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